老美聯(lián)合他的小弟們開始圍剿華夏，打壓華夏。但是有一件事情華夏跟之前的國家很不同，那就是華夏有著世界上最多的人口，最大的消費市場！更是占據(jù)著世界上百分之三十多的工業(yè)制造！
老美在華夏改革開放之后就已經(jīng)開始制造業(yè)轉(zhuǎn)移開始制造業(yè)空心化。然后開始享受華夏龐大勞動力，生產(chǎn)的物美價廉的產(chǎn)品。
可能最開始的時候，老美的民眾還可能覺得無所謂。
可是時間長了，老美就會發(fā)現(xiàn)，很難去不進口華夏的產(chǎn)品，因為國內(nèi)的需求難以滿足！因為在老美制造業(yè)空心化開始的時候，他的工人階級已經(jīng)開始失業(yè)，國內(nèi)的工人待遇也可以說中產(chǎn)開始變少！
財富開始越來越集中！現(xiàn)在還是平安無事那是因為有華夏的低廉產(chǎn)品，維持著老美的社會運行。而低收入群里長時間的發(fā)現(xiàn)自己入不敷出之后那就會產(chǎn)生社會影響。
這時候他們就會選擇去制裁華夏的高端制造業(yè)，讓華夏一直處在低端的產(chǎn)業(yè)鏈。這樣就可以抑制華夏的崛起！而到了這一步基本上也會是下一任總統(tǒng)會進行！
而這個時間段估計會是五年后！所以王驍說為什么會是五年后。
聽到王驍這么說，領(lǐng)導點了點頭，然后示意王驍繼續(xù)說。
王驍有點蒙，而領(lǐng)導則是跟王驍說，你肚子里明明還有很多的想法，跟預測大膽的說！不要在那玩低調(diào)！
王驍只能繼續(xù)說了一點，比如這些不會有真正的效果，因為華夏不是那些小國家，華夏都人才很多，真的制裁華夏只能讓華夏自己去突破，所以在高端制造業(yè)制裁只能是一時的手段！
現(xiàn)在的高端制造領(lǐng)域已經(jīng)開始發(fā)展了，等老美開始全面壓制的時候就已經(jīng)會晚了！
王驍不再說之后，領(lǐng)導也同意了王驍?shù)恼f法，答應會全力配合，隱瞞大米在這次的光刻機領(lǐng)域的最為！
等老美制裁之后再對外公布！
另外，王驍也得到了領(lǐng)導對現(xiàn)在技術(shù)應用的時間，預計今年軍用就會開始率先使用，然后明年后年在更好的一代技術(shù)有了之后，這現(xiàn)在的技術(shù)才會向民用開放！
得到答案后王驍，王驍心滿意足的離開了：部位！
然后王驍就回到濱城，準備實地去看看這次的突破！
這次王驍不是空手去的，是帶著獎金來的，王驍這次會獎勵這次所有參與光刻機研究的工作人員，給他們高額獎勵！
王驍是上午得到消息的，當天下午王驍就回到了濱城，低調(diào)的回到了濱城，然后低調(diào)的來到了實驗室所在！
這地方現(xiàn)在是保密單位，普通人根本靠近不了！為的就是讓這個項目保密不被發(fā)現(xiàn)。
尤其是在相關(guān)的扶持基金進場后，保密更嚴格了。要不是王驍是這個項目煩真正發(fā)起者，和絕大部分資金的供應著，王驍想要很容易的進入是很難得。
光刻機是半導體工業(yè)中的關(guān)鍵設備，主要用于制造芯片中的微小結(jié)構(gòu)。它通過將掩模上的圖形投影到硅片上，并使用紫外線照射硅片表面，使其形成微小的結(jié)構(gòu)。
光刻機的核心部件包括鏡頭、光源、曝光臺、測量臺等。鏡頭是光刻機最核心的部分，采用的鏡頭可以達到高2米直徑1米，甚至更大。
光源是光刻機核心之一，光刻機的工藝能力首先取決于其光源的波長。曝光臺和測量臺是承載硅片的工作臺。
光刻機的工作原理雖然類似于照相機照相，但光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。
光學系統(tǒng)：包括曝光光源、透鏡、反射鏡等。用來將掩模上的圖形投影到硅片上。
機械系統(tǒng)：包括平臺、運動控制系統(tǒng)*、自動對位系統(tǒng)等，用于控制硅片的位置和運動軌跡?？刂葡到y(tǒng)：包括計算機、控制軟件*等，用于控制整個光刻機的運行和曝光過程。
二、光刻機的工作原理
光刻機的工作原理主要包括曝光和顯影兩個過程
曝光過程（1）準備工作：將硅片放置在平臺上，并通過自動
對位系統(tǒng)對硅片進行定位和對位。
（2）加熱處理：將硅片加熱至一定溫度，以使其表
面更容易吸收光線。
?。?）涂覆光刻膠*：將光刻膠涂覆在硅片表面，以
形成一個光刻膠層。
（4）對位：通過自動對位系統(tǒng)將掩模和硅片對位，
以確保圖形的正確投影。
?。?）曝光：通過光學系統(tǒng)將掩模上的圖形投影到硅片上，并使用紫外線照射硅片表面，使其形成微小的結(jié)構(gòu)。顯影過程是指將硅片表面的光刻膠進行化學反應
從而形成微小結(jié)構(gòu)的過程。
顯影過程主要包括以下幾個步驟：
(1）涂覆顯影劑：將顯影劑涂覆在硅片表面，以溶
解光刻膠。
(2）顯影：通過化學反應將硅片表面的光刻膠進行
溶解，從而形成微小的結(jié)構(gòu)。
(3）清洗：將硅片表面的顯影劑和光刻膠殘留物清洗干凈，以準備下一次曝光。
光源技術(shù)+：光源是曝光過程中最關(guān)鍵的部分，它的穩(wěn)定性和光強度對于曝光的精度和速度都有著重要的影響?，F(xiàn)代光刻機使用的光源主要有氙氣燈+、熒光燈、激光等。
透鏡技術(shù)+：透鏡是將掩模上的圖形投影到硅片上的關(guān)鍵部件，它的制造精度和材料質(zhì)量對于曝光的精度和分辨率都有著重要的影響。
控制系統(tǒng)技術(shù)：控制系統(tǒng)是光刻機的核心部分，它負責整個曝光過程的控制和管理。現(xiàn)代控制系統(tǒng)采用計算機和控制軟件，能夠?qū)崿F(xiàn)自動對位、自動矚光、自動對焦等功能。
曝光技術(shù)：曝光技術(shù)是光刻機制造中最關(guān)鍵的技術(shù)之一，它的精度和速度直接影響到芯片的制造質(zhì)量和效率。現(xiàn)代曝光技術(shù)主要包括多重圖形投射式曝光技術(shù)+、極紫外光曝光技術(shù)等。
王驍自己的了解了一下這次突破的方面，這次的突破只要就是之前一直難以攻克的極紫外線蝕刻問題這次被攻克了！