第438章 光刻機(jī)項(xiàng)目：另辟蹊徑

　　沐陽研究更新后的閱讀系統(tǒng)兩個(gè)多小時(shí)才研究透，興奮得睡不著。

　　喝了一杯茶，他想看看芯片制造技術(shù)的核心設(shè)備：光刻機(jī)。

　　目前市場(chǎng)上，有兩種主流光刻機(jī)，一個(gè)是DUV光刻機(jī)，另一個(gè)是EUV光刻機(jī)。

　　DUV是深紫外線（Deep Ultraviolet Lithography），EUV是極深紫外線（Extreme Ultraviolet Lithography）。

　　從制...