第279章 下一代光刻機(jī)研發(fā)計(jì)劃
一位光學(xué)方面的專家發(fā)言道:“光源波長(zhǎng)越短,傳播過程中越容易被透鏡吸收。下一代0.5微米光刻機(jī),如果依舊使用高壓汞燈當(dāng)光源,使用現(xiàn)在的透鏡組合就足夠了,頂多加工精度再提高一些。如果使用準(zhǔn)分子激光做光源,透鏡系統(tǒng)就需要推倒重做,組合里至少增加兩枚玻璃透鏡,參數(shù)也要重新設(shè)計(jì),還有鍍膜材質(zhì)也要重新開發(fā)。這方面研究需要盡快提上日程,如果開發(fā)新透鏡組合,需要的計(jì)算量非常的大,使用普通計(jì)算機(jī)計(jì)算,需要...